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2010.12.20
【受賞】 分子合成化学分野の博士後期課程3年の南辻 裕氏が第36回反応と合成の進歩シンポジウムにて優秀発表賞を受賞

・第36回反応と合成の進歩シンポジウム(平成22年11月1、2日)
 「水酸基のアセタール型保護基の脱保護と他の保護基への直接変換」
 優秀発表賞
 南辻 裕(分子合成化学分野 博士後期課程3年)

 天然物をはじめ様々な化合物を合成する際、反応性の高い官能基の保護・脱保護過程は、必要不可欠なステップです。我々の研究室では、緩和な条件下でアセタール類から発生させたカチオン性塩中間体の反応性についての研究を行っており、今回、本手法を応用し、水酸基の保護基としてよく用いられるアセタール型保護基の新規脱保護法の開発に成功しました。本反応は非常に緩和な条件下で進行することから、従来法では適用が困難であった、酸に不安定な官能基を有する基質にも適用できます。有機化学が飛躍的に発展してきた現在においても、緩和な条件下での脱保護法の例は少なく、本法は優れた脱保護法として、その内容が高く評価されました。

受賞した博士後期課程3年の南辻 裕 氏
大阪大学 大学院薬学研究科・薬学部
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